第九三八章 提案

    三月十五日至三十一日，第八届全国rd第一次会议在京举行。大会审议和通过了李领导所作的《政工作报告。

    《报告提出，经济体制改革的目标是建立社会主义市场经济体制，要求从一九九三年起要力争在转换国有企业经营机制、发展各类市场、价格改革、劳动工资制度改革、推进社会保障和城镇住房制度改革、改善和加强宏观经济管理等方面，取得突破性的进展。

    “孙健，你的提案我们都看了，对国内光刻机的研发和生产现状一针见血，振耳聩聋，非常有远见性、紧迫性和可行性，李领导让我交给你一项重要任务，国z委在中官村高新区有偿划拨一千亩工业用地，将工y部45所、中k院微电子研究中心和中k院沪海光学精密机械研究所及其配套工厂，所有从事光刻机半导体研发和生产任务的干部职工和生产设备全部从原单位剥离出来，将所拥有的技术专利、干部职工和生产设备等整体注入，国有资产评估公司评估2亿元，国资占股40，淘宝控股公司投资3亿元，占股60，注册资本金5亿元，成立京城半导体设备股份有限责任公司，你担任公司法人和董事长，魏建国同志担任公司总经理，国资股份中，中k院占股17，工y部占股13，中官村管委会占股10。”

    作为全国zx委员，第一次参加全国zx会议，参z议z是每个委员的职责，孙健撰写了一份《研发新一代光刻机是中g跟上世界集成电路发展步伐的希望的提案，在大会上宣读。

    从国内光刻机的研发和生产企业的现状，与世界光刻机研发和生产公司的巨大差距，大力发展新一代光刻机的必要性和紧迫感，呼吁集中从事光刻机等半导体研发和生产的团队，成立一家光刻机等半导体生产设备股份制公司，采用市场化手段，共同研发和生产新一代光刻机等半导体生产设备，打破西方国家对先进光刻机等半导体生产设备的封锁。

    建议以研发人员、生产人员、技术专利、生产设备和土地等投入，以股份制公司形式，在京城或沪海成立一家光刻机等半导体生产设备股份公司，建立现代企业管理制度，打破铁饭碗和干部终身制，能者上，劣者下，按劳分配，多劳多得，上不封顶，奖励管理层和技术团队股权，与公司的兴衰息息相关，以数据说话，高屋建瓴，见解独特，可行性强，字里行间流露出提升国内光刻机等半导体生产设备的焦急心情，这份提案引起参会的科协和科技界等zx委员的高度关注和热议，提案被领导们广泛传阅。

    zx会议结束后，孙健被朱副领导留了下来。

    四月一日上午，朱副领导在办公室接见了孙健，电子工y部宗部长、中k院周院长、中官村管委会沈主任和中k院微电子研究中心半导体设备厂魏建国厂长在座。

    八六年，109厂与中k院半导体研究所、中k院计算技术研究所有关研制大规模集成电路部分单位合并，成立中k院微电子研究中心，原109厂变成了半导体设备厂。

    “首长，我服从安排，请首长帮忙，从三家研究所及其配套工厂的干部中，再给公司配备一名副总经理、一名光刻机研究院院长和一名副院长，我只负责公司的重大决策。”

    虽然孙健明白留他下来肯定谈论如何振兴国产光刻机的大事？但做梦也没有想到，国家竟然将国内三家研发和生产光刻机等半导体生产设备的核心研究机构及其配套工厂交给他，成立京城半导体设备股份有限责任公司，简称bsec，由淘宝控股公司投资控股，担任法人，领导国内光刻机等半导体生产设备的研发和生产。

    任务艰巨而光荣！

    国内光刻机等半导体设备的研发和生产处于半停滞状态，技术水平与当今世界光刻机龙头企业尼康公司相差十年以上。

    六一年，成立三年的gca美国地球物理公司造出了世界第一台接触式光刻机。

    七十年代，尼康公司和佳能公司开始进入这个领域，作为光学行业的顶级巨鳄，相机里的一块cmos感光元件，技术难度都比当时的光刻机不知道高多少倍？如鱼得水！

    七十年代，kasper仪器公司首先推出了接触式对齐机台并领先了几年，cobilt公司做出了自动生产线，但接触式机台后来被接近式机台所淘汰。

    七三年，拿到美国军方投资的p＆e公司推出了投影式光刻系统，搭配正性光刻胶非常好用而且良率颇高，因此迅速占领了市场。

    七八年，gca推出了世界上第一台商用步进光刻机dsw4800，该机器使用g线汞灯和蔡司光学元件，以10:1的比例将芯片线路成像到十毫米见方区域。

    八零年，尼康公司率先推出日本首台kr商用步进光刻机nsr1010g，能够以五倍的分辨率的减少实现1μm制程工艺，生产比gca更高分辨率的镜头吸引客户。

    ibm、ii、amd和hp等美国半导体公司，在公司利益面前果断放弃美国利益，纷纷掉头投入尼康公司的怀抱。

    在尼康公司的打压下，gca的高端市场份额不断减少，在八五年、八六年损失一亿美元，不得不裁员七成；八八年，美国通用信号公司以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca，为了与尼康竞争，sematech美国半导体制造技术战略联盟资助gca开发成功kr光刻机，实现了1μm制程工艺，但尼康光刻机的制程工艺提升到800nm，gca的高端市场份额没有多大起色。

    六六年，中k院109所与沪海光学仪器厂联手协作成功研制中国第一台光刻机、65型接触式光刻机。

    八一年，中k院半导体研究所研制成功jk1半自动接近式光刻机。

    八二年，109厂、冰城量具刃具厂和阿城继电器厂共同研制成功kha751型半自动接近式光刻机，在指标上已经完全对标日本的型。